紫外線光源ソリューション
~紫外線技術に特化した専門メーカー製品で多様な課題を解決~
紫外線光源のエキスパートであるクォークテクノロジー社の製品は、世界初のシリコンウェハー用面照射エキシマランプをはじめ、UV-LEDやUV-Laserなど、専門性の高い紫外線光源技術により、半導体やディスプレイ、電子部品などのあらゆる分野の「洗浄」「殺菌」「分析」「硬化」「剥離」の生産工程において、その技術が活用されております。
製品ラインナップ
エキシマ照射装置
【使用例】
フォトマスク検査前除電・ウェハ除電(回路破損防止)・ガラス表面有機物除去(ドライクリーニング)
コート前表面改質(密着性向上)・メッキ前表面改質(微細メッキ浸透)・電子基板の接合前処理(密着性向上)
エキシマランプとは
エキシマランプとは、従来の放電灯(水銀ランプやキセノンランプ等)と異なる発光原理・構造で、真空紫外光を照射できる光源です。
従来の光洗浄改質で用いられてきた水銀ランプ(波長185nmと254nm)に比べるとフォトンエネルギーが高い、波長172nmの紫外線外光(VUV)を発生します。また、瞬時の点灯消灯が可能で、アイドリングを必要としません。
【製品特長】
1. ダメージレス処理
フォトンエネルギーの高い172nm(真空紫外線)により効率よく炭素結合を切断、活性酸素・オゾン生成をおこなうことで
ダメージを与えず表面処理を行えます。
2. 高照度・高均一性
独自技術である面全面が発光するフラットタイプによりワーク全面を一括照射できます。全面照射することで高照度で照射
ムラのない均一な照射が可能となります。
【使用例】
医療現場・エレベーター等・会議室
eVIOは、紫外線本来のウイルス抑制・除菌能力を保持したまま、人や動物の身体への影響を抑える先進技術によって、従来の紫外線波長では不可能だった有人環境下での使用を実現した、全く新しい紫外線ライトです。
【製品特長】
1. 空間除菌
eVIOは空間除菌に優れた効果を発揮します。
特に有人環境下での運用においては、有害な波長だけを取り除いた紫外線を照射することで、人体に影響を与えずに空間を
丸ごと除菌し、安全で清潔な状態を保つことが可能です。
2. 物体表面除菌
eVIoは物体表面の除菌にも効果的です。
特に無人環境下であれば連続した照射も可能であり、除菌効果を最大化することが可能です。
eVIOは有人環境下で使用できる安全性を確立しています。
(製品取扱説明書に記載の使用方法を遵守してご使用ください)
【使用例】
レーザーリフトオフ(WLP , PLP など)・フレキシブル材微細加工(PI , 銅など)
マイクロビアホール穿孔・ファイバーブラッググレーディング
【製品特長】
1. 高出力UVレーザー発振器
コンパクトな筐体、出力15w以上の高出力UVレーザー。結晶の高寿命化によりランニングコストの低減に貢献します。
2. システム構築・試験設備
光学機器・制御ソフトを含めたレーザーシステムとして提供可能。加工面のオーダーに対応、実際にUVレーザーを使用した
加工試験も実施できます。(受託加工は不可)
【使用例】
レジスト硬化・ナノインプリント硬化・ダイシングテープ硬化
貼り合わせUV硬化・ブリーチング・分光/検査用光源
紫外線に反応する素材は多種多様で、材料ごとに反応する紫外線の波長が異なります。
材料によっては2種類以上の波長を照射することで、目的の効果を得られる場合があります。
UV-LED装置は必要な波長・照射強度などワークサイズに合わせてオーダーメイドしており、最適条件でUV処理を行うことが可能です。
【製品特長】
1. LEDのメリット
従来の紫外線照射で使用されてきた水銀ランプに比べ、UV-LED光源は長寿命でありランプの交換回数が少なくなるため
メンテナンス回数を削減できます。また、LEDは消費電力が少ないためCO2排出量を大幅に削減することが可能です。
2. 面照射型ユニット
照射面積を自由にカスタマイズできます。
ワークの一括照射に向いており、複数波長の同時照射が可能です。
3. インライン照射型ユニット
搬送処理に対応した高照度モデルです。
高密度で実装されたLEDにより、高い均一性を実現しています。
4. 線照射型ユニット
LED搭載数を抑えた低価格モデルです。
集光レンズを搭載し、局所的に高照度での照射が可能です。
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